超纯水设备工艺流程的全面讲解

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  随着半导体设计在生产过程中向精密化、小型化、小型化发展,对纯水质量的要求也越来越高,超纯水是一种除水离子外,还含有硅石、微粒、细菌、有机物质和微生物一并给予有限度的去除达到完全纯净程度的水质,常用于电子行业。所以超纯水设备已经成为了半导体行业用水的重要保障。

  超纯水设备顾名思义,其是采用EDI技术和反渗透技术相结合,可有效去除水中悬浮物、胶体、颗粒等杂质,达到净化水质的良好目的。此设备无需添加任何化学药剂,无需担心水质的二次污染。

  自来水进入原水箱,通过原水泵增压,经砂滤器、炭滤器、阻垢剂加药、保安过滤器,到达反渗透单元,经两级反渗透过滤进入EDI单元,抛光混床单元,EDI出水进入纯水水箱,此时水质的电阻率是15兆欧,经过抛光混床后,产水电阻率达到18兆欧,但是不进入水箱,直接进入用水点。因为水箱中若出现产水滞留,会影响产水水质。纯水供水设计为循环方式,经纯水供水泵增压,通过紫外线消毒器、抛光混床接入纯水供水管,到达使用点。

  超纯水设备一般包括石英砂滤器、活性碳滤器、阻垢剂、精密过滤器、RO反渗透主机系统、EDI电除盐系统、离子交换混床系统等构成。通过多年来的实践,莱德采用反渗透技术和EDI装置相结合的工艺制备超纯水,莱德超纯水设备具有很好的实用价值,可以实现自动控制,从某种程度上而言,可以有效的达到我国电子级水质标准,具有自动化程度高,水质稳定等优势。

  莱特莱德超纯水设备()在设计上采用两级RO+EDI+精混床除盐水的处理工艺,具有成熟、可靠、自动化程度高等优势,保证了处理后的出水电阻率达到18 MΩ.CM以上。设备内部还安装有反渗透预脱盐技术,从根本上保证出水水质。

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